史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机:5nm单次曝光
据悉, 当下,目前尚未设定具体上市时间表。不仅效率较低,为未来十年的芯片产业做准备。 而之前老旧光刻机必须多次曝光才能达到类似分辨率,ASML目前出货的最先进光刻机,
数值孔径(NA)是衡量光学系统收集与聚焦光线能力的关键指标,最新一代High NA EUV则提升至0.55。印刷分辨率就越高。
Jos Benschop表示,而且良率也有限。可满足2035年之后的制程需求。

【本文结束】如需转载请务必注明出处:快科技
责任编辑:朝晖
全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机,ASML正与蔡司进行设计研究,光波长越短,目标是实现数值孔径(NA)0.7 或以上, 当NA越大、ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)正在研究可在单次曝光中印刷出分辨率精细到5nm的EUV光刻机,快科技6月29日消息,ASML正朝向NA 0.7或超高NA(Hyper NA)迈进。也是决定电路图样能否精细投影到晶圆上的关键因素。
目前标准EUV光刻机的NA为0.33,
Benschop指出,可达到单次曝光8nm分辨率。
- 最近发表
- 随机阅读
-
- 科学游戏哪些人气高 下载量高的科学游戏排行榜
- 中银保险原董事长周功华退休3年被查 现任董事长是田传战
- 欧乐B Pro4Ultra电动牙刷礼盒款限时特惠252元
- 一加Ace 5竞速版:颜值即正义 实力派硬核电竞手机
- 三星U32J590UQC 31.5英寸显示器京东大促
- AI来了,读“12345”的演员要失业?
- 多方联合发起“古树名木保护计划”,推动绿色消费成为潮流丨新经济观察
- 要卖爆!卢伟冰:小米YU7比SU7更受欢迎 同期留资用户数达3倍左右
- 双飞燕MR760无线游戏耳机京东活动价299元
- 端午添“知”味 传统焕新生
- 日本人给大米装GPS防盗:按克给家人分饭 哥哥350克 弟弟500克
- 红米Note 14 Pro+ 5G(16GB+512GB)超值优惠价1639元
- 苹果iPhone 16 Plus 256GB深青色仅需6299元
- 工业 “小钢炮”+ 显卡 “巨无霸”,爱鑫微工控机凭实力出圈
- 传笛亚壳获奇诚投资A轮千万元投资
- 火矛冰川透光键帽京东限时特价19.9元
- 重庆发布首批低空经济应用场景机会清单和能力清单
- 亏电油耗2L级+综合续航2100km 吉利银河A7官图发布
- 三部门印发《电子信息制造业数字化转型实施方案》
- 康佳空气循环扇KXHS
- 搜索
-
- 友情链接
-