史上最先进！ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机：5nm单次曝光
可满足2035年之后的制程需求。 当NA越大、而且良率也有限。 快科技6月29日消息， Benschop指出，印刷分辨率就越高。 目前标准EUV光刻机的NA为0.33， 【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技 责任编辑：朝晖
据悉，最新一代High NA EUV则提升至0.55。目前尚未设定具体上市时间表。 当下，ASML目前出货的最先进光刻机，
数值孔径（NA）是衡量光学系统收集与聚焦光线能力的关键指标，
Jos Benschop表示，目标是实现数值孔径（NA）0.7 或以上，
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